این سیستم در واقع استفاده از یک فتوکاتالیزور نیمه هادی (TiO2) ، اکسنده پرسولفات و نور UV به طور همزمان است؛ لذا از مزایای هر دو سیستم UV/S2O82-(سیستم فتولیزی همگن) و UV/TiO2 (سیستم فتوکاتالیزوری) به طور همزمان بهره میبرد و از طریق چندین مسیر مختلف منجر به حذف مؤثر مواد آلی محلول در آب میشود. مزایای استفاده از TiO2 در مقیاس نانو نیز به این مجموعه اضافه میشود. حذف مواد آلی از آبهای آلوده توسط این سیستم مطابق مکانیزم های زیر اتفاق می افتد:
مکانیزم اول مکانیزم غیرمستقیم نام دارد.
(۱-۱۲) |
e-cb و h+vb به ترتیب عبارتند از الکترون در نوارهدایت و حفره الکترون در نوار ظرفیت. هر دوی این اجزا میتوانند به سطح فتوکاتالیزور مهاجرت کنند و در آنجا وارد واکنشهای اکسایش- کاهش با ذرات دیگری که بر سطح فتوکاتالیزور جذبسطحی شدهاند، بشوند. در بیشتر حالات h+vb دارای این توانایی است که به آسانی با مولکولهای آب جذب شده در سطح فتوکاتالیزور واکنشداده تولید رادیکال هیدروکسیل نماید. رادیکالهیدروکسیلتولیدشده به راحتی میتواند ساختمان ماده آلاینده را تخریب نماید]۳۵-۳۴[.
(۱-۱۳) |
بخشی از این جفتهای الکترون- حفره در عرض چند نانو ثانیه با آزاد کردن گرما با هم ترکیب میشوند که این امر باعث کاهش کارایی سیستم میگردد. هر چه فتوکاتالیزور در انفصال بارهای ایجاد شده توسط فوتون ( ecb- و hvb+) بهتر عمل کند همجوشی مجدد این ذرات با یکدیگر کمتر بوده، واکنشهای مطلوب بیشتر خواهد بود]۲۴[. همچنین تلهاندازهای الکترون نیز میتوانند از این عمل جلوگیری کنند. اکسیژن محلول در آب میتواند به عنوان گیرنده الکترون عمل کند و از همجوشی مجدد جفت الکترون- حفره جلوگیری نماید.
(۱-۱۴) |
آنیون رادیکال پراکسیدی که به روش بالا تولید میشود میتواند وارد واکنشهای دیگر شده و منجر به تولید رادیکال که یکی از عوامل تخریب آلاینده آلی است، گردد:
(۱-۱۵) | |
(۱-۱۶) | |
(۱-۱۷) |
شکل (۱-۲) شماتیکی از مکانیزم غیر مستقیم حذف آلاینده آلی توسط ذرات اکسندهای است که در تابش نور UV در یک فتوکاتالیزور ایجاد میشوند.